摩方精密3D打印是科研級3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新，為客戶提供好的3D打印服務(wù)體驗。

一、摩方精密3D打印產(chǎn)品介紹

nanoArch®是采用PUSL（面投影微立體光刻）技術(shù)，用于實現(xiàn)高精度多材料微納尺度3D打印的設(shè)備。通過將紫外光投影到液態(tài)樹脂表面使其固化，逐層累加從而完成產(chǎn)品的制作。通過一次曝光可以完成一層的制作。

科研級3D打印系統(tǒng)，擁有超高打印精度和超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

二、摩方精密3D打印產(chǎn)品特性

1、可定制高定位精度的光學(xué)系統(tǒng)和運動平臺，兩者最高分辨率皆可達(dá)到20μm。

2、采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾。

3、通過工藝技術(shù)控制，實現(xiàn)3D打印成品的表面光滑。

4、光學(xué)方面：光學(xué)實時監(jiān)控，實現(xiàn)自動對焦及曝光補(bǔ)償。

5、軟件系統(tǒng)：nanoArch圖形界面控制系統(tǒng)，參數(shù)端口開放。

三、使用環(huán)境要求

1、需避免的場合：

垃圾、灰塵、油霧多的場所；

震動以及沖擊多的場所；

能觸及藥品和易燃易爆物的場所；

高頻干擾源附近的場所；

溫度會急劇變化的場所；

在CO2、NOX、SOX等濃度高的環(huán)境中。

2、環(huán)境濕度：40%-60%

3、環(huán)境溫度：25±3℃

4、電力需求：

100-240V/單相/50/60Hz/15A；

供電電網(wǎng)波動：＜5%；

電網(wǎng)地線符合機(jī)房國標(biāo)要求。